Selection of a precursor for the atomic layer deposition of copper: application to the 3D integration

Author
Thomas Prieur
Year
2012
Language of the thesis
French
Thesis name in original language
Sélection d'un précurseur pour l'élaboration de couches atomiques de cuivre : application à l'intégration 3D
Abstract & Cover
Source of Information
Fabien Piallat
University
SIMAP - Science et Ingenierie, MAtériaux Procédés
(Grenoble, France)
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