Comparative study of deposition process of semiconductor thin films from metalorganic precursors : ALCVD reactor and PACVD reactor

Author
Frédérique Donsanti
Year
2003
Language of the thesis
French
Thesis name in original language
Comparaison de procédés de dépôt de couches minces semi-conductrices à partir de précurseurs organométalliques. Cas des réacteurs à flux alternés en phase vapuer (ALCVD) et réacteur plasma diode hors équilibre (PACVD)
Abstract & Cover
Source of Information
N. Schneider
University
Université Pierre et Marie Curie
(Paris, France)
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